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在碳化硅制品表面制备抗氧化涂层提高抗氧化能力

[2026-09-14]    来源:    作者:超级管理员  阅读:28次  【打印此页】

        在碳化硅制品表面制备抗氧化涂层,是延长其使用寿命、提高其抗氧化能力的有效途径。MoSi2的熔点高,密度适中,具有优异的高温稳定性与高温抗氧化性!6MoSi2的抗氧化温度可达1700℃,在1650℃的空气中能经受2000h以上的氧化,是最适合工程应用的高温涂层材料。但是,MoSi2的热膨胀系数较大,并在400700℃出现低温氧化导致的粉化性破坏("pest”现象)。JI3N4的热膨胀系数较小,可减小涂层和基体的热膨胀系数差异。本文采用浆料涂覆工艺,利用高含氢硅油(H-SO)在低温下可形成防水膜、对粉料的分散性良好、价格低廉、在高温下会分解为无定形陶瓷等优点,在碳化硅制品表面制备MOSI2SI3N4复合抗氧化涂层。与单一MoSi2涂层对比,分析其氧化前后涂层的形貌、物相组成以及涂层的抗氧化性能。实验方法涂层的制备用酒精超声清洗碳化硅制品样品,在烘箱中干燥。在体积比为7:3的MoSi2和SI3N4粉末(粒度为13Mn)混合物中加入SO分散液,以二乙烯基苯(DVB(C6H4(CH-CH2)2),SigmaAldrich)作交联剂,少量氯铂酸(H2PtC16"6H20)作催化剂,配制成一定浓度的涂层浆料。采用涂刷法在碳化硅制品样品表面均匀涂覆一定厚度的浆料,然后将其放入烘箱120℃下保温3h,使其交联固化。然后将碳化硅制品试样放入1000℃高温管式炉中烧结2h,选用高纯N2作为保护性气体。用相同的方法制备MoSi2抗氧化涂层。用场发射扫描电子显微镜(FESEM)观察涂层的微观形貌,并测试电子能谱以分析微区元素含量分布,测试电压为15kVo测试傅里叶变换红外光谱(FTIR)以分析H-PSO在裂解前后的结构变化。用RigakuD/max-rC型X射线衍射仪分析涂层以及高含氢硅油H-PSO(含氢量0.1%1.6%)裂解产物的物相结构。为了评价抗氧化涂层的效果,分别将未涂层碳化硅制品试样、单一MoSi2涂层碳化硅制品试样、MoSi2Si3N4复合涂层碳化硅制品试样安装到电炉中。加热元件的表面负荷为8W/cm2,在静态氧化气氛中将电炉10℃/min的加热速率升温到1500℃,保持5h,然后关闭电炉自然降温,进行20次循环测试。使用高温箱式炉将涂层后的小块样品在700℃氧化50h,分析涂层的中温抗氧化性能。http://www.guitanbang.net.cn/